似空科学仪器(上海)有限公司欢迎您! 联系电话:18657401082
似空科学仪器(上海)有限公司
技术文章
当前位置:主页 > 技术文章 > RIE反应离子刻蚀机的特点和应用场景

RIE反应离子刻蚀机的特点和应用场景

时间:2023-03-09  点击次数:2010

反应离子刻蚀机是一种用于信息科学与系统科学、材料科学领域的工艺试验仪器,它利用射频电源在上下电极间产生辉光放电,使反应气体分子被电离生成等离子体,然后通过化学和物理反应来移除衬底表面的材料。

 

反应离子刻蚀机具有以下特点:

  • 固态射频发生器和近距离耦合匹配网络,可实现快速且一致的刻蚀
  • 全局域的工艺气体进气喷头实现了均匀的气体分布
  • 电极温度可调节,范围为-150℃至+400℃
  • 高抽气速率能够提供较宽的工艺气压窗口
  • 晶圆压盘与背氦制冷提供了更佳的晶片温度控制
  • 可刻蚀各种材料,如金属、半导体、介质等

 

反应离子刻蚀机在微纳加工领域有着广泛的应用,如制备微型传感器、微型马达、微型光学器件等。它可以实现高度各向异性的刻蚀,即沿垂直方向刻蚀速率远大于沿水平方向刻蚀速率,从而保证了图形的精确转移和高方面比。

 

公司简介 新闻资讯 技术文章 联系我们
似空科学仪器(上海)有限公司

联系电话:
18657401082