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日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。

型号：RIE-10NR
发布时间：2023-08-07
精密电子万能试验机 – Autograph AGS-X系列
岛津 AutographAGS-X系列为多种应用提供卓越的性能和实用的试验解决方案。AGS-X系列提供高级控制和直观的操作，为强度评估设定了新标准，并以现代、时尚的设计提供超高的安全性。

型号：Autograph AGS-X系列
发布时间：2025-08-23
等离子增强型原子层沉积设备（ALD）- TFS200
Beneq TFS 200 专为学术和企业研发而设计，是一款用途广泛的原子层沉积（ALD）平台，可在真正的 ALD 模式下提供卓越的薄膜质量。

型号：TFS200
发布时间：2025-08-23
日本SAMCO ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iP
RIE-800iP是一种高性能ICP(电感耦合等离子体)蚀刻系统，它使用高密度等离子体来执行光电器件和电子元件所需的化合物半导体或介电膜蚀刻.

型号：RIE-800iP
发布时间：2024-02-03
日本SAMCO 深硅蚀刻设备 RIE-400iP
The RIE-400iP是一种高性能电感耦合等离子体(ICP)蚀刻系统，它使用高密度等离子体来执行光电器件和电子元件所需的化合物半导体蚀刻。

型号：RIE-400iP
发布时间：2024-02-03
蓝岸探针台FA系列FA-2000
基于高可靠的闪光灯泵浦激光平台，FiLaser FA-100 AIO激光系统为OEM客户提供了紧凑的高能激光系统，能够在1064、532、355和266nm提供~mJ脉冲能量。

型号：LANANtek FA-2000
发布时间：2023-08-03
蓝岸探针台SA系列SA-300
SA 系列探针台是一款在非真空条件下实现高低温环境的测试探针台。该产品采用气冷制冷，自动控温，设备配置非常丰富。自带屏蔽暗室，一方面可以屏蔽无线电磁干扰，另外一方面也可以保持氮气正压环境下样品在低温时无结霜。该产品多数用于相关单位实验室。产品优势：可搭配高低温温控系统,温度范围为-60-300℃可实现半自动测试微腔屏蔽

型号：LANANtek SA-300
发布时间：2023-08-03
蓝岸探针台M系列M-300
掌握晶圆检测核心技术——专注半导体探针测试领域

型号：LANANtek M-300
发布时间：2023-08-03
Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80
PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

型号：PlasmaPro 80 RIE
发布时间：2023-03-01
AXIS-TEC激光晶圆划片机AX-LS100
AXISTEC激光晶圆划片机，采用高精度激光，形成极小的光点，因其非接触式加工，对工件本身无机械冲压力，工件不易变形，且热影响极小，激光寿命长，搭配高精度平移台，使得划片精度高，速度快，成本更低。

型号：AX-LS100
发布时间：2022-06-02
酵母显微操作仪 MSM400
Singer公司新开发出来有史以来最强大的酵母显微操作工具—MSM 400系列，它更直观，更容易使用，并拥有先进的影像和定时拍摄特点，极大地增强了酵母成熟和筛选方案。

型号：MSM400
发布时间：2022-04-13
高精度光电自准直仪 AutoMATE5000
自准直仪是一种用于检测平面反射镜微小角度变化的光学测量仪器，从功能上理解，自准直仪是将准直仪（或平行光管）和准直望远镜结合为一体的一台仪器。自准直仪通常由光源、分划板、分光镜、物镜以及望远接收部分构成（参见以上示意图），光学自准直仪的望远接收部分由分划板和目镜组成，通过人眼观测并结合机械测微装置完成测量，光电自准直仪的望远接收部分则由光电传感器完成接收和测量。

型号：AutoMATE5000
发布时间：2022-04-07

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